Elemento GD-MS GD Plus™

Redefina el análisis de materiales avanzados de alta pureza directamente en estado sólido con el GD-MS Thermo Scientific™ Element GD Plus™. Para un alto rendimiento y límites de detección de niveles muy bajos de ppmm, el sistema GD-MS Element GD Plus es la herramienta más cómoda y potente para el análisis de metales a granel y el perfilado en profundidad en aplicaciones rutinarias y de investigación.

El GD-MS Element GD Plus permite el análisis de casi todos los elementos de la tabla periódica de materiales conductores y no conductores con el mismo nivel de sensibilidad y calidad de datos. El análisis de metales con punto de fusión bajo, como el galio, se facilita con un flujo de trabajo específico para la preparación y el análisis de muestras. Esto hace que el GD-MS sea el estándar fiable para el análisis de metales.

Casi todos los elementos presentes en una muestra sólida se pueden detectar y cuantificar de forma rutinaria: la mayoría en el nivel de partes por mil millones (ppmm).

Alta productividad y bajo costo de análisis
El GD-MS Element GD Plus está diseñado para ofrecer una sensibilidad y precisión excepcionales con un alto rendimiento de muestras, lo que reduce el costo de los análisis.

• Fuente de iones de flujo rápido.
• Diseño de la fuente fácil de usar: Intercambio de muestras en < 1 min.
• Tiempos de bombeo cortos: Procesamiento de las muestras en < 10 min.
• Alto rendimiento de muestras: Hasta 5 muestras por hora.
• Menor preparación de muestras: No es necesario limpiar con ácido las muestras de alta pureza.
• Análisis de muestras más rápido: No es necesario medir patrones de calibración.

Funcionamiento rutinario
El GD-MS Element GD Plus está diseñado con un funcionamiento rutinario y un alto rendimiento en su esencia.

• El intervalo dinámico lineal que abarca más de 12 órdenes de magnitud permite el análisis simultáneo de elementos de matriz (%), trazas (ppm) y ultratrazas (ppmm).
• La calibración cruzada automática entre diferentes modos de detección garantiza resultados consistentes.
• Cámara de vacío para muestras: elimina el riesgo de fugas entre la muestra y la celda delGD.
• Determine las concentraciones elementales rápidamente en un solo barrido sin patrones de calibración (mediante el enfoque de RSF estándar).
• La mejor precisión en un breve período de análisis.

Límites de detección excepcionales
El GD-MS Element GD Plus ofrece un alto rendimiento sin comprometer los resultados. Con la relación señal-ruido más alta y los límites de detección más bajos, el GD-MS Element GD Plus es una herramienta de trabajo potente para el análisis elemental de pureza ultraalta.

• Fuente de iones exclusiva diseñada para una alta transmisión de iones, maximizando la señal analizada.
• La relación señal-ruido garantizada produce límites de detección inferiores a ppmm.
• La opción CNO permite alcanzar límites de nivel de detección inferiores a ppm para CNO sin comprometer el rendimiento del análisis.
• Reducción del factor 10 de las interferencias poliatómicas en comparación con las fuentes de GD estáticas.

Confianza en los resultados con alta resolución de masas
La simplicidad de la ICP-MS de alta resolución permite un rendimiento más avanzado, sin comprometer el desarrollo sencillo y confiable de los métodos.

• Mediciones sin interferencias para resultados analíticos indiscutibles.
• Cualquier combinación de ajustes de resolución se puede realizar en un solo análisis.
• El diseño de rendimiento fijo garantiza la máxima estabilidad y reproducibilidad.
• Contribución mínima de las señales de matriz alta en los picos de analito cercanos debido a la lente del filtro.

Perfilado en profundidad con resolución nanométrica
El perfilado en profundidad es una herramienta importante para el análisis elemental de revestimientos y la evaluación de la difusión de elementos entre las capas.

• Resolución en profundidad de nanómetros a cientos de micrómetros.
• Determinación de las concentraciones de todos los elementos desde inferiores a ppm hasta 100% sin necesidad de calibración.
• Diámetro de ánodo flexible para un perfilado en profundidad avanzada.
• Las velocidades de pulverización se pueden ajustar para análisis a granel o perfilado en profundidad.

Recomendado para:

• Aeroespacial: superaleaciones de níquel, materiales compuestos, realización de perfiles de profundidad de revestimientos y capas de difusión.
• Microelectrónica: cobre, alúmina en polvo, objetivos de pulverización.
• Energías renovables: bloques de silicio, obleas, celdas solares.
• Medicina/farmacéutica/alimentación: acero inoxidable, aleaciones.